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測(cè)試項(xiàng)目：奧氏體不銹鋼硫酸溶液晶間腐蝕測(cè)試
測(cè)試目的：評(píng)估奧氏體不銹鋼在硫酸溶液中的耐晶間腐蝕性能。
項(xiàng)目介紹：奧氏體不銹鋼在腐蝕介質(zhì)作用下，在晶粒之間產(chǎn)生的一種腐蝕現(xiàn)象稱為晶間腐蝕。主要是由于晶界處缺陷多，原子排列混亂容易出現(xiàn)碳化物等晶界析出物，導(dǎo)致晶界和晶粒處成分有差異，在一定的介質(zhì)中會(huì)形成原電池，晶界處是陽(yáng)*而晶粒是陰*，這樣在晶界處合金元素性溶解，會(huì)產(chǎn)生電化學(xué)腐蝕現(xiàn)象。當(dāng)晶界的鉻的質(zhì)量分?jǐn)?shù)低到小于12%時(shí)，就形成所謂的“貧鉻區(qū)”，在腐蝕介質(zhì)作用下，貧鉻區(qū)就會(huì)失去耐腐蝕能力，而產(chǎn)生晶間腐蝕。
測(cè)試要求：
測(cè)試標(biāo)準(zhǔn) | 標(biāo)準(zhǔn)名稱 | 樣品要求 | 測(cè)試內(nèi)容 | 適用范圍 |
GB/T 4334.6-2015 | 不銹鋼5%硫酸腐蝕試驗(yàn)方法 | 試樣的表面積為10~30cm2，從試驗(yàn)材料上切取的試樣，與軋制或鍛造方向相垂直的面積應(yīng)不大于試樣表面積的1/2。加工后試樣的表面粗糙度不大于0.8μm。每次試驗(yàn)的平行試樣不少于3個(gè) | 試樣的質(zhì)量損失 | 含鉬奧氏體不銹鋼 |
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