半導(dǎo)體電檢測(cè)費(fèi)用
免費(fèi)初檢。因檢測(cè)項(xiàng)目以及實(shí)驗(yàn)復(fù)雜程度不同,需聯(lián)系工程師確定后進(jìn)行報(bào)價(jià)。
檢測(cè)時(shí)間:一般3-10個(gè)工作日(特殊樣品除外)。有的項(xiàng)目可加急1.5天出報(bào)告。
半導(dǎo)體電檢測(cè)報(bào)告用途
報(bào)告類型:電子報(bào)告、紙質(zhì)報(bào)告(中文報(bào)告、英文報(bào)告、中英文報(bào)告)。
檢測(cè)用途: 電商平臺(tái)入駐;商超賣場(chǎng)入駐;產(chǎn)品質(zhì)量改進(jìn);產(chǎn)品認(rèn)證;出口通關(guān)檢驗(yàn)等
半導(dǎo)體電檢測(cè)報(bào)告如何辦理?檢測(cè)項(xiàng)目及標(biāo)準(zhǔn)有哪些?百檢第三方檢測(cè)機(jī)構(gòu),嚴(yán)格按照半導(dǎo)體電檢測(cè)相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行測(cè)試和評(píng)估。做檢測(cè),找百檢。我們只做真實(shí)檢測(cè)。
涉及半導(dǎo)體 電的標(biāo)準(zhǔn)有64條。
國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)分類中,半導(dǎo)體 電涉及到集成電路、微電子學(xué)、半導(dǎo)體分立器件、絕緣材料、頻率控制和選擇用壓電器件與介質(zhì)器件、航空航天制造用材料、半導(dǎo)體材料、整流器、轉(zhuǎn)換器、穩(wěn)壓電源、電子元器件綜合。
在中國(guó)標(biāo)準(zhǔn)分類中,半導(dǎo)體 電涉及到半導(dǎo)體集成電路、微電路綜合、信息處理技術(shù)綜合、火工產(chǎn)品、電工絕緣材料及其制品、半導(dǎo)體分立器件綜合、電力半導(dǎo)體器件、部件、航空與航天用金屬鑄鍛材料、元素半導(dǎo)體材料、半導(dǎo)體二極管、計(jì)算機(jī)應(yīng)用、基礎(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)與通用方法。
國(guó)家質(zhì)檢總局,關(guān)于半導(dǎo)體 電的標(biāo)準(zhǔn)
GB/T 17574.11-2006半導(dǎo)體器件 集成電路 第2-11部分:數(shù)字集成電路單電源集成電路電可擦可編程只讀存儲(chǔ)器 空白詳細(xì)規(guī)范
GB/T 17574.9-2006半導(dǎo)體器件.集成電路.第2-9部分:數(shù)字集成電路.紫外光擦除電可編程MOS只讀存儲(chǔ)器空白詳細(xì)規(guī)范
GB/T 12843-1991半導(dǎo)體集成電路 微處理器及外圍接口電路電參數(shù)測(cè)試方法的基本原理
國(guó)際電工委員會(huì),關(guān)于半導(dǎo)體 電的標(biāo)準(zhǔn)
IEC 60747-5-15:2022半導(dǎo)體器件第5-15部分:光電子器件發(fā)光二極管基于電反射光譜法的平帶電壓試驗(yàn)方法
IEC 60747-5-15-2022半導(dǎo)體器件第5-15部分:光電子器件發(fā)光二極管基于電反射光譜法的平帶電壓試驗(yàn)方法
IEC 60747-5-9-2019半導(dǎo)體器件第5-9部分:光電子器件發(fā)光二極管基于溫度依賴性電致發(fā)光的內(nèi)部量子效率試驗(yàn)方法
IEC 60747-5-9:2019半導(dǎo)體器件第5-9部分:光電子器件發(fā)光二極管基于溫度依賴性電致發(fā)光的內(nèi)部量子效率試驗(yàn)方法
IEC 62047-35-2019半導(dǎo)體器件.微機(jī)電裝置.第35部分:撓性機(jī)電裝置彎曲變形電特性的試驗(yàn)方法
IEC 62047-35:2019半導(dǎo)體器件.微機(jī)電裝置.第35部分:撓性機(jī)電裝置彎曲變形電特性的試驗(yàn)方法
IEC 62047-36:2019半導(dǎo)體器件微機(jī)電器件第36部分:MEMS壓電薄膜的環(huán)境和介電耐受試驗(yàn)方法
IEC 62047-36-2019半導(dǎo)體器件微機(jī)電器件第36部分:MEMS壓電薄膜的環(huán)境和介電耐受試驗(yàn)方法
IEC 62415:2010半導(dǎo)體器件.恒定電流電遷移試驗(yàn)
IEC 62374:2007半導(dǎo)體器件.柵極介電薄膜用時(shí)間相關(guān)的電介質(zhì)擊穿(TDDB)試驗(yàn)
IEC 62258-5-2006半導(dǎo)體管芯產(chǎn)品.第5部分:電模擬信息要求
IEC 60748-2-11:1999半導(dǎo)體器件 集成電路 第2-11部分:數(shù)字集成電路 單電集成電路可擦、可編程、只讀存儲(chǔ)器集成電路空白詳細(xì)規(guī)范
IEC 60748-2-9-1994半導(dǎo)體器件 - 集成電路 - 第2部分:數(shù)字集成電路 - 第9節(jié):MOS紫外線可擦除電可編程只讀存儲(chǔ)器的空白詳細(xì)規(guī)范
,關(guān)于半導(dǎo)體 電的標(biāo)準(zhǔn)
TS 2959-1978船舶電氣裝置:電源和照明變壓器、半導(dǎo)體整流器、發(fā)電機(jī)和發(fā)動(dòng)機(jī)、電推進(jìn)裝置、油箱
美國(guó)材料與試驗(yàn)協(xié)會(huì),關(guān)于半導(dǎo)體 電的標(biāo)準(zhǔn)
ASTM D4325-20非金屬半導(dǎo)體和電絕緣橡膠膠帶的標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試方法
ASTM D4388-20非金屬半導(dǎo)體和電絕緣橡膠帶的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)范
貴州省地方標(biāo)準(zhǔn),關(guān)于半導(dǎo)體 電的標(biāo)準(zhǔn)
DB52/T 796-2013工業(yè)半導(dǎo)體電雷管
美國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)學(xué)會(huì),關(guān)于半導(dǎo)體 電的標(biāo)準(zhǔn)
ANSI/ASTM D4388:2013非金屬半導(dǎo)體和電絕緣膠帶用規(guī)范
ANSI/ASTM D4325:2013非金屬半導(dǎo)體和電絕緣膠帶用試驗(yàn)方法
ANSI/UL 1557-2013電絕緣半導(dǎo)體裝置安全性標(biāo)準(zhǔn)
美國(guó)保險(xiǎn)商實(shí)驗(yàn)所,關(guān)于半導(dǎo)體 電的標(biāo)準(zhǔn)
UL 1557-2011電絕緣半導(dǎo)體器件
UL 1557-2006電絕緣半導(dǎo)體器件
UL 1557-1997電絕緣半導(dǎo)體器件
UL 1557-1993電絕緣半導(dǎo)體器件
德國(guó)標(biāo)準(zhǔn)化學(xué)會(huì),關(guān)于半導(dǎo)體 電的標(biāo)準(zhǔn)
DIN EN 62415-2010半導(dǎo)體器件.恒定電流電遷移試驗(yàn)(IEC 62415-2010);德文版本EN 62415-2010
DIN EN 62374-2008半導(dǎo)體器件.與時(shí)間有關(guān)的柵極介電薄膜的介質(zhì)擊穿(TDDB)試驗(yàn)
DIN 50456-2-1995半導(dǎo)體工藝材料的試驗(yàn).電子元件用模塑化合物的特性表示法.第2部分:用壓力萃取法測(cè)定電離子雜質(zhì)
法國(guó)標(biāo)準(zhǔn)化協(xié)會(huì),關(guān)于半導(dǎo)體 電的標(biāo)準(zhǔn)
NF C80-201-2010半導(dǎo)體器件.恒定電流電遷移試驗(yàn).
NF C96-017-2008半導(dǎo)體器件.與時(shí)間有關(guān)的柵極介電薄膜的介質(zhì)擊穿(TDDB)試驗(yàn)
NF C96-034-5-2006半導(dǎo)體壓模產(chǎn)品.第5部分:關(guān)于電模擬信息的要求
英國(guó)標(biāo)準(zhǔn)學(xué)會(huì),關(guān)于半導(dǎo)體 電的標(biāo)準(zhǔn)
BS EN 62415-2010半導(dǎo)體器件.恒定電流電遷移試驗(yàn)
BS EN 62374-2007半導(dǎo)體裝置.依賴時(shí)間的柵極介電薄膜的介質(zhì)擊穿(TDDB)試驗(yàn)
BS IEC 60748-2-11:1999半導(dǎo)體器件.集成電路.數(shù)字集成線路.單電集成電路可擦、可編程、只讀存儲(chǔ)器集成電路空白詳細(xì)規(guī)范
歐洲電工標(biāo)準(zhǔn)化委員會(huì),關(guān)于半導(dǎo)體 電的標(biāo)準(zhǔn)
EN 62374-2007半導(dǎo)體器件.與時(shí)間有關(guān)的柵極介電薄膜的介質(zhì)擊穿(TDDB)試驗(yàn)
美國(guó)國(guó)防后勤局,關(guān)于半導(dǎo)體 電的標(biāo)準(zhǔn)
DLA SMD-5962-90611 REV B-2006硅單片,TTL可兼容輸入,電可擦可編程序只讀存儲(chǔ)器,高速氧化物半導(dǎo)體數(shù)字記憶微型電路
DLA SMD-5962-90899 REV D-2006硅單塊 互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體128K X 8比特動(dòng)畫電可擦可編程序只讀存儲(chǔ)器,數(shù)字主儲(chǔ)存器微型電路
DLA SMD-5962-95625 REV A-1996數(shù)字的互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體,16-MEG用戶配置電可擦除只讀存儲(chǔ)器硅單片電路線型微電路
DLA SMD-5962-90692 REV C-1996硅單片,裝有單片電可編程序只讀存儲(chǔ)器的16位微型處理器,氧化物半導(dǎo)體數(shù)字微型電路
DLA SMD-5962-93247 REV A-1995硅單片,電可擦可編程序只讀存儲(chǔ)器,氧化物半導(dǎo)體數(shù)字記憶微型電路
DLA SMD-5962-89590 REV A-1994硅單片,512 X 8位串聯(lián)式電可擦除只讀存儲(chǔ)器,氧化物半導(dǎo)體數(shù)字記憶微型電路
DLA SMD-5962-89667 REV A-1994硅單片,2048 X 8串聯(lián)電可擦除只讀存儲(chǔ)器,,氧化物半導(dǎo)體高速數(shù)字記憶微型電路
DLA SMD-5962-94557 REV A-1994硅單片,1MX 8電可擦除可程序化隨機(jī)存取存儲(chǔ)器,氧化物半導(dǎo)體數(shù)字記憶微型電路
DLA SMD-5962-91682-1993硅單塊128K X 8比特5瓦特編程電可擦可編程序只讀存儲(chǔ)器,互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體,數(shù)字主儲(chǔ)存器微型電路
DLA SMD-5962-93087 REV A-1993硅單片,電可擦除可編程邏輯陣列,氧化物半導(dǎo)體數(shù)字記憶微型電路
DLA SMD-5962-92105-1992硅單塊 互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體8-宏單元電程序邏輯設(shè)備,數(shù)字主儲(chǔ)存器微型電路
DLA SMD-5962-92121-1992硅單塊 電可擦拭可編程邏輯設(shè)備,互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體,數(shù)字主儲(chǔ)存器微型電路
DLA SMD-5962-88676-1989硅單片2K X 8電可擦可編程序只讀存儲(chǔ)器互補(bǔ)型金屬氧化物半導(dǎo)體數(shù)字存儲(chǔ)微電路
韓國(guó)標(biāo)準(zhǔn),關(guān)于半導(dǎo)體 電的標(biāo)準(zhǔn)
KS C IEC 61136-1:2002半導(dǎo)體功率整流器.可調(diào)速度的電傳動(dòng)裝置通用要求.第1部分:直流傳動(dòng)裝置為中心的額定規(guī)范
行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-電子,關(guān)于半導(dǎo)體 電的標(biāo)準(zhǔn)
SJ 50033/22-1994半導(dǎo)體分立器件.2CC51E型硅電調(diào)變?nèi)荻O管詳細(xì)規(guī)范
SJ/T 11067-1996紅外探測(cè)材料中半導(dǎo)體光電材料和熱釋電材料常用名詞術(shù)語(yǔ)
SJ/T 10734-1996半導(dǎo)體集成電路文字符號(hào) 電參數(shù)文字符號(hào)
SJ/T 10803-1996半導(dǎo)體集成接口電路線電路測(cè)試方法的基本原理
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