x射線(xiàn)峰位測(cè)量檢測(cè)費(fèi)用

免費(fèi)初檢。因檢測(cè)項(xiàng)目以及實(shí)驗(yàn)復(fù)雜程度不同，需聯(lián)系工程師確定后進(jìn)行報(bào)價(jià)。

檢測(cè)時(shí)間：一般3-10個(gè)工作日（特殊樣品除外）。有的項(xiàng)目可加急1.5天出報(bào)告。

x射線(xiàn)峰位測(cè)量檢測(cè)報(bào)告用途

報(bào)告類(lèi)型：電子報(bào)告、紙質(zhì)報(bào)告(中文報(bào)告、英文報(bào)告、中英文報(bào)告)。

檢測(cè)用途： 電商平臺(tái)入駐；商超賣(mài)場(chǎng)入駐；產(chǎn)品質(zhì)量改進(jìn)；產(chǎn)品認(rèn)證；出口通關(guān)檢驗(yàn)等

x射線(xiàn)峰位測(cè)量檢測(cè)報(bào)告如何辦理？檢測(cè)項(xiàng)目及標(biāo)準(zhǔn)有哪些？百檢第三方檢測(cè)機(jī)構(gòu)，嚴(yán)格按照x射線(xiàn)峰位測(cè)量檢測(cè)相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行測(cè)試和評(píng)估。做檢測(cè)，找百檢。我們只做真實(shí)檢測(cè)。

涉及x射線(xiàn)峰位測(cè)量的標(biāo)準(zhǔn)有176條。

國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)分類(lèi)中，x射線(xiàn)峰位測(cè)量涉及到分析化學(xué)、金屬材料試驗(yàn)、無(wú)損檢測(cè)、半導(dǎo)體材料、表面處理和鍍涂、核能工程、光學(xué)設(shè)備、絕緣流體、水質(zhì)、長(zhǎng)度和角度測(cè)量、土質(zhì)、土壤學(xué)、輻射防護(hù)、犯罪行為防范、輻射測(cè)量、詞匯、有色金屬、醫(yī)療設(shè)備、實(shí)驗(yàn)室醫(yī)學(xué)、耐火材料、電工和電子試驗(yàn)、燃料、石油產(chǎn)品綜合、攝影技術(shù)、質(zhì)量、信息技術(shù)應(yīng)用、電學(xué)、磁學(xué)、電和磁的測(cè)量、電子管、航空航天制造用材料。

在中國(guó)標(biāo)準(zhǔn)分類(lèi)中，x射線(xiàn)峰位測(cè)量涉及到基礎(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)與通用方法、金屬物理性能試驗(yàn)方法、基礎(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)與通用方法、半金屬與半導(dǎo)體材料綜合、材料防護(hù)、核儀器與核探測(cè)器綜合、電子光學(xué)與其他物理光學(xué)儀器、化學(xué)、電工儀器、儀表綜合、輻射防護(hù)儀器、質(zhì)譜儀、液譜儀、能譜儀及其聯(lián)用裝置、重金屬及其合金、重金屬及其合金分析方法、電氣設(shè)備與器具綜合、實(shí)驗(yàn)室基礎(chǔ)設(shè)備、低壓電器綜合、醫(yī)用射線(xiàn)設(shè)備、基礎(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)與通用方法、燃料油、滾動(dòng)軸承、輻射防護(hù)監(jiān)測(cè)與評(píng)價(jià)、涂料、Ｘ射線(xiàn)、磁粉、熒光及其他探傷儀器、硅質(zhì)耐火材料、電子元件綜合、通用核儀器、基礎(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)與通用方法、石油產(chǎn)品綜合、金屬無(wú)損檢驗(yàn)方法、物理學(xué)與力學(xué)、基礎(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)與通用方法、物性分析儀器、、程序語(yǔ)言、電真空器件綜合、電容器、元素半導(dǎo)體材料。

中華人民共和國(guó)國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局、中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)，關(guān)于x射線(xiàn)峰位測(cè)量的標(biāo)準(zhǔn)

GB/T 36053-2018X射線(xiàn)反射法測(cè)量薄膜的厚度、密度和界面寬度儀器要求、準(zhǔn)直和定位、數(shù)據(jù)采集、數(shù)據(jù)分析和報(bào)告

GB/T 34612-2017藍(lán)寶石晶體X射線(xiàn)雙晶衍射搖擺曲線(xiàn)測(cè)量方法

國(guó)家質(zhì)檢總局，關(guān)于x射線(xiàn)峰位測(cè)量的標(biāo)準(zhǔn)

GB/T 25758.5-2010無(wú)損檢測(cè).工業(yè)X射線(xiàn)系統(tǒng)焦點(diǎn)特性.第5部分：小焦點(diǎn)和微焦點(diǎn)X射線(xiàn)管的有效焦點(diǎn)尺寸的測(cè)量方法

GB/T 25188-2010硅晶片表面超薄氧化硅層厚度的測(cè)量 X射線(xiàn)光電子能譜法

GB/T 24576-2009高分辯率X射線(xiàn)衍射測(cè)量GaAs襯底生長(zhǎng)的AlGaAs中Al成分的試驗(yàn)方法

GB/T 16921-2005金屬覆蓋層覆蓋層厚度測(cè)量 X射線(xiàn)光譜法

GB/T 11685-2003半導(dǎo)體X射線(xiàn)探測(cè)器系統(tǒng)和半導(dǎo)體X射線(xiàn)能譜儀的測(cè)量方法

GB/T 17723-1999黃金制品鍍層成分的X射線(xiàn)能譜測(cè)量方法

GB/T 16921-1997金屬覆蓋層厚度測(cè)量X射線(xiàn)光譜方法

GB/T 13388-1992硅片參考面結(jié)晶學(xué)取向X射線(xiàn)測(cè)量方法

美國(guó)材料與試驗(yàn)協(xié)會(huì)，關(guān)于x射線(xiàn)峰位測(cè)量的標(biāo)準(zhǔn)

ASTM D6502-10(2022)用X射線(xiàn)熒光（XRF）測(cè)量工藝水中低水平懸浮固體和離子固體的在線(xiàn)綜合樣品的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法

ASTM E915-21殘余應(yīng)力測(cè)量用X射線(xiàn)衍射儀校準(zhǔn)驗(yàn)證的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施規(guī)程

ASTM B568-98(2021)通過(guò)X射線(xiàn)光譜法測(cè)量涂層厚度的標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試方法

ASTM E2860-20用于軸承鋼的X射線(xiàn)衍射的殘余應(yīng)力測(cè)量的標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試方法

ASTM E2119-20使用現(xiàn)場(chǎng)便攜式X射線(xiàn)熒光（XRF）器件對(duì)涂料或其他涂料中鉛含量進(jìn)行原位測(cè)量的質(zhì)量體系標(biāo)準(zhǔn)實(shí)踐

ASTM E915-19殘余應(yīng)力測(cè)量用X射線(xiàn)衍射儀校準(zhǔn)驗(yàn)證的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法

ASTM E1426-14(2019)e1用X射線(xiàn)衍射技術(shù)測(cè)定殘余應(yīng)力測(cè)量用X射線(xiàn)彈性常數(shù)的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法

ASTM E2119-16采用現(xiàn)場(chǎng)便攜式X射線(xiàn)熒光 (XRF) 設(shè)備對(duì)油漆或者其他涂料中鉛含量進(jìn)行原位測(cè)量的質(zhì)量系統(tǒng)標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施規(guī)程

ASTM E1426-14采用X射線(xiàn)衍射技術(shù)測(cè)定殘余應(yīng)力測(cè)量中使用的X射線(xiàn)彈性常數(shù)的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法

ASTM D7757-12通過(guò)單色波長(zhǎng)色散X射線(xiàn)熒光分光分度計(jì)測(cè)量汽油及相關(guān)產(chǎn)品中硅的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法

ASTM E2860-12使用X射線(xiàn)衍射法測(cè)量軸承鋼殘余應(yīng)力的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法

ASTM A754/A754M-11鋼表面金屬涂層重量(質(zhì)量)X射線(xiàn)熒光測(cè)量的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法

ASTM E2120-10測(cè)量漆膜中鉛含量用便攜式X射線(xiàn)熒光光譜儀性能評(píng)估的標(biāo)準(zhǔn)操作規(guī)程

ASTM E2120-10(2016)用于涂料薄膜中鉛含量測(cè)量的便攜式X射線(xiàn)熒光分光計(jì)的性能評(píng)估標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施規(guī)程

ASTM E915-10殘余應(yīng)力測(cè)量用X射線(xiàn)衍射儀校準(zhǔn)檢定的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法

ASTM D6502-10(2015)利用X射線(xiàn)熒光 (XRF) 測(cè)量生產(chǎn)用水中低水平懸浮固體和離子固體即時(shí)整合樣品的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法

ASTM D6502-08用X射線(xiàn)熒光（XRF）連續(xù)測(cè)量工藝水中低水平可過(guò)濾物質(zhì)（懸浮固體）和不可過(guò)濾物質(zhì)（離子固體）的在線(xiàn)復(fù)合樣品的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法

ASTM D5059-07X射線(xiàn)分光光度法測(cè)量汽油中鉛含量的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法

ASTM ISO/ASTM51431-05食品加工用電子束和X射線(xiàn)(韌制輻射)輻射設(shè)備劑量測(cè)量的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施規(guī)程

ASTM E2120-00涂料薄膜中鉛含量測(cè)量用便攜式X射線(xiàn)熒光光譜儀性能評(píng)估的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施規(guī)程

ASTM E2119-00用野外便攜式X射線(xiàn)熒光設(shè)備現(xiàn)場(chǎng)測(cè)量涂料或其它覆層中鉛含量用質(zhì)量系統(tǒng)的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)程

ASTM D6502-99(2003)用X射線(xiàn)熒光（XRF）在線(xiàn)測(cè)量水中低水平微粒和溶解金屬的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法

ASTM D6502-99用X射線(xiàn)熒光（XRF）在線(xiàn)測(cè)量水中低水平微粒和溶解金屬的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法

ASTM D5059-98(2003)e1X射線(xiàn)分光光度法測(cè)量汽油中鉛含量的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法

ASTM D5059-98X射線(xiàn)分光光度法測(cè)量汽油中鉛含量的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法

ASTM E1426-98(2003)殘余應(yīng)力X-射線(xiàn)缺陷測(cè)量效果彈性參數(shù)測(cè)定的試驗(yàn)方法

ASTM B568-98(2014)用X射線(xiàn)光度法測(cè)量鍍層厚度的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法

ASTM B568-98(2009)用X射線(xiàn)光度法測(cè)量鍍層厚度的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法

ASTM E915-96殘余應(yīng)力測(cè)量用X射線(xiàn)衍射儀校準(zhǔn)檢定的測(cè)試方法

ASTM E915-96(2002)殘余應(yīng)力測(cè)量用X射線(xiàn)衍射儀校準(zhǔn)檢定的測(cè)試方法

ASTM E1695-95(2006)e1計(jì)算機(jī)層析X射線(xiàn)攝影(CT)系統(tǒng)性能測(cè)量的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法

ASTM F847-94(1999)單晶硅片參考面結(jié)晶學(xué)取向X射線(xiàn)測(cè)量的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法

國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)化組織，關(guān)于x射線(xiàn)峰位測(cè)量的標(biāo)準(zhǔn)

ISO 22581:2021表面化學(xué)分析X射線(xiàn)光電子能譜測(cè)量掃描的近實(shí)時(shí)信息含碳化合物表面污染的識(shí)別和校正規(guī)則

ISO 14701:2018表面化學(xué)分析 - X射線(xiàn)光電子能譜 - 氧化硅厚度的測(cè)量

ISO 22489:2016微光束分析.電子探針微量分析.運(yùn)用波長(zhǎng)色散X射線(xiàn)光譜測(cè)量法定量分析塊狀樣品

ISO 14701:2011表面化學(xué)分析.X射線(xiàn)光電子能譜.二氧化硅厚度的測(cè)量

ISO 21587-3:2007硅酸鋁耐火材料的化學(xué)分析(可選擇X射線(xiàn)熒光法).第3部分:感應(yīng)耦合等離子體和原子吸收光譜測(cè)量法

ISO 22489:2006微光束分析.電子探針微量分析.運(yùn)用波長(zhǎng)色散X射線(xiàn)光譜測(cè)量法定量分析塊狀樣品

ISO 3497:2000金屬覆蓋層 鍍層厚度的測(cè)量 X射線(xiàn)光譜法

ISO 3497:1990金屬鍍層.鍍層厚度的測(cè)量.X射線(xiàn)光譜測(cè)定法

ISO 3497:1976金屬涂層.涂層厚度的測(cè)量.X射線(xiàn)光譜測(cè)定法

國(guó)際電工委員會(huì)，關(guān)于x射線(xiàn)峰位測(cè)量的標(biāo)準(zhǔn)

IEC 61010-2-091-2019用于測(cè)量 控制和實(shí)驗(yàn)室使用的電氣設(shè)備的安全要求 - 第2-091部分:機(jī)柜X射線(xiàn)系統(tǒng)的特殊要求

IEC 61010-2-091:2019 RLV測(cè)量、控制和實(shí)驗(yàn)室用電氣設(shè)備的安全要求第2-091部分:柜式X射線(xiàn)系統(tǒng)的特殊要求

IEC 61010-2-091-2019 RLV測(cè)量、控制和實(shí)驗(yàn)室用電氣設(shè)備的安全要求第2-091部分:柜式X射線(xiàn)系統(tǒng)的特殊要求

IEC 62945:2018輻射防護(hù)儀器.測(cè)量X射線(xiàn)計(jì)算機(jī)斷層掃描（CT）安檢系統(tǒng)的成像性能

IEC 62945-2018輻射防護(hù)儀器.測(cè)量X射線(xiàn)計(jì)算機(jī)斷層掃描（CT）安檢系統(tǒng)的成像性能

IEC 62709-2014輻射防護(hù)儀器 - 人體安全檢測(cè) - 測(cè)量X射線(xiàn)系統(tǒng)的成像性能

IEC 62709:2014輻射防護(hù)儀器.人員的安全屏蔽.X射線(xiàn)系統(tǒng)成像性能的測(cè)量

IEC 61010-2-091-2012用于測(cè)量 控制和實(shí)驗(yàn)室使用的電氣設(shè)備的安全要求 - 第2-091部分:機(jī)柜X射線(xiàn)系統(tǒng)的特殊要求

IEC 61010-2-091:2012測(cè)量、控制和實(shí)驗(yàn)室用電氣設(shè)備的安全性要求.第2-091部分:柜式X射線(xiàn)系統(tǒng)詳細(xì)要求

IEC 61526:2010輻射防護(hù)裝置.X、γ、中子和β射線(xiàn)輻射個(gè)人劑量當(dāng)量Hp(10)和Hp(0.07)的測(cè)量.直讀式個(gè)人劑量當(dāng)量計(jì)

IEC 61526:2005輻射防護(hù)儀表.X、γ、中子和β射線(xiàn)輻射個(gè)人劑量當(dāng)量Hp(10)和Hp(0.07)的測(cè)量.直讀式個(gè)人劑量當(dāng)量計(jì)和監(jiān)測(cè)器

英國(guó)標(biāo)準(zhǔn)學(xué)會(huì)，關(guān)于x射線(xiàn)峰位測(cè)量的標(biāo)準(zhǔn)

BS ISO 14701:2018表面化學(xué)分析. X射線(xiàn)光電子能譜學(xué). 二氧化硅厚度測(cè)量

BS ISO 22489:2016微光束分析.電子探針微量分析.用波長(zhǎng)色散X-射線(xiàn)光譜測(cè)量法作塊狀樣品的定量點(diǎn)分析

BS IEC 62709:2014輻射防護(hù)儀器. 人員的安全屏蔽. X射線(xiàn)系統(tǒng)成像性能的測(cè)量

BS EN 61010-2-091-2012測(cè)量, 控制和實(shí)驗(yàn)室使用電氣設(shè)備的安全要求. 柜式X射線(xiàn)系統(tǒng)的詳細(xì)要求

BS ISO 14701:2011表面化學(xué)分析.X射線(xiàn)光電子能譜學(xué).二氧化硅厚度測(cè)量

BS EN 61526-2007輻射防護(hù)儀器裝置.X、γ、中子和β射線(xiàn)輻射個(gè)人劑量當(dāng)量Hp(10)和Hp(0.07)的測(cè)量.直讀式個(gè)人劑量當(dāng)量計(jì)和監(jiān)控器

BS ISO 22489:2007微光束分析.電子探針微量分析.用波長(zhǎng)色散X-射線(xiàn)光譜測(cè)量法作塊狀樣品的定量點(diǎn)分析

BS EN 14096-1-2003無(wú)損檢驗(yàn).X射線(xiàn)照相膠片數(shù)字化系統(tǒng)的質(zhì)量鑒定.定義、成像質(zhì)量參數(shù)的定量測(cè)量，標(biāo)準(zhǔn)參考膠片以及定性控制

BS EN 14096-1-2003 (2008)無(wú)損檢驗(yàn).X射線(xiàn)照相膠片數(shù)字化系統(tǒng)的質(zhì)量鑒定.定義、成像質(zhì)量參數(shù)的定量測(cè)量，標(biāo)準(zhǔn)參考膠片以及定性控制

BS EN ISO 3497:2001金屬覆層.覆層厚度的測(cè)量.X射線(xiàn)光譜測(cè)定法

BS EN 12543-5-1999無(wú)損檢驗(yàn).無(wú)損檢驗(yàn)用工業(yè)X射線(xiàn)系統(tǒng)的焦點(diǎn)特性.小型和微型聚焦X射線(xiàn)管有效焦點(diǎn)尺寸測(cè)量

BS 7518-1995輻射防護(hù)儀器.環(huán)境監(jiān)測(cè)用測(cè)量X射線(xiàn)或γ射線(xiàn)的便攜式、可移動(dòng)或者固定安裝的設(shè)備.集成組裝

德國(guó)標(biāo)準(zhǔn)化學(xué)會(huì)，關(guān)于x射線(xiàn)峰位測(cè)量的標(biāo)準(zhǔn)

DIN EN 61010-2-091 Berichtigung 1-2016測(cè)量、控制和實(shí)驗(yàn)室用電器的安全性要求.第2-091部分:櫥柜X射線(xiàn)系統(tǒng)用詳細(xì)要求(IEC 61010-2-091-2012).德文版本EN 61010-2-091-2012;DIN EN 61010-2-091 (VDE 0411-2-091)-2013-01的勘誤

DIN IEC 62709:2015輻射防護(hù)儀器.人員的安全屏蔽.X射線(xiàn)系統(tǒng)成像性能的測(cè)量(IEC 62709-2014)

DIN 51418-2-2015X射線(xiàn)光譜分析.X射線(xiàn)散射和X射線(xiàn)熒光分析(RFA).第2部分:定義和測(cè)量、校準(zhǔn)及評(píng)估的基本原則

DIN EN 61526-2013輻射防護(hù)儀器裝置.X、γ、中子和β射線(xiàn)輻射個(gè)人劑量當(dāng)量H<指數(shù)p>(10)和H<指數(shù)p>(0.07)的測(cè)量.直讀式個(gè)人劑量當(dāng)量計(jì)(IEC 61526-2010,修訂本).德文版本EN 61526-2013

DIN EN 61010-2-091-2013測(cè)量、控制和實(shí)驗(yàn)室用電器的安全性要求.第2-091部分:櫥柜X射線(xiàn)系統(tǒng)用詳細(xì)要求(IEC 61010-2-091-2012).德文版本EN 61010-2-091-2012

DIN EN 61526-2007輻射防護(hù)儀器裝置.X、γ、中子和β射線(xiàn)輻射個(gè)人劑量當(dāng)量H<指數(shù)p>(10)和H<指數(shù)p>(0.07)的測(cè)量.直讀式個(gè)人劑量當(dāng)量計(jì)和監(jiān)控器(IEC 61526-2005的修正版)

DIN EN ISO 3497:2001金屬鍍層.鍍層厚度測(cè)量.X射線(xiàn)光譜測(cè)定法

DIN 51418-2 Bb.1-2000X射線(xiàn)光度法.X射線(xiàn)散射和X射線(xiàn)熒光分析(XRF).第2部分:定義和測(cè)量、校準(zhǔn)及對(duì)結(jié)果評(píng)定的基本原理.附加信息和計(jì)算范例

DIN EN 13068-1-2000無(wú)損檢驗(yàn).X射線(xiàn)檢查試驗(yàn).第1部分:成像特性定量測(cè)量

DIN EN 12543-5-1999無(wú)損檢測(cè).無(wú)損檢測(cè)用工業(yè)X射線(xiàn)系統(tǒng)焦點(diǎn)的特性.第5部分:*小和*大聚焦X射線(xiàn)電子管有效焦點(diǎn)尺寸測(cè)量

DIN 51418-2-1996X射線(xiàn)光譜分析.X射線(xiàn)散射和X射線(xiàn)熒光分析(RFA).第2部分:定義和測(cè)量、校準(zhǔn)及評(píng)估的基本原則

DIN 50443-1-1988半導(dǎo)體工藝使用材料的檢驗(yàn).第1部分:用X射線(xiàn)外形測(cè)量法檢測(cè)半導(dǎo)體單晶硅中晶體缺陷和不均勻性

，關(guān)于x射線(xiàn)峰位測(cè)量的標(biāo)準(zhǔn)

PN J80010-1973X和γ射線(xiàn)的光度測(cè)量劑量裝置．一般要求和測(cè)試方法

法國(guó)標(biāo)準(zhǔn)化協(xié)會(huì)，關(guān)于x射線(xiàn)峰位測(cè)量的標(biāo)準(zhǔn)

NF A08-701-1-2015銅和銅合金.用波長(zhǎng)分布X-射線(xiàn)熒光光譜法(XRF)測(cè)定主要結(jié)構(gòu)和雜質(zhì).第1部分:常規(guī)測(cè)量指南

NF C19-105-2013輻射防護(hù)裝置.X、γ、中子和β射線(xiàn)輻射個(gè)人劑量當(dāng)量Hp(10)和Hp(0.07)的測(cè)量.直讀式個(gè)人劑量當(dāng)量計(jì)

NF C42-020-2-091-2013測(cè)量, 控制和實(shí)驗(yàn)室使用電氣設(shè)備的安全要求. 第2-091部分: 柜式X射線(xiàn)系統(tǒng)的詳細(xì)要求

NF S92-502-2013醫(yī)用生物實(shí)驗(yàn)室.人類(lèi)輻射學(xué).肺.能量小于200 keV的X-射線(xiàn)和α-射線(xiàn)發(fā)射器的測(cè)量

NF X21-006-2007微光束分析.電子探針微量分析.用波長(zhǎng)色散X-射線(xiàn)光譜測(cè)量法進(jìn)行塊狀樣品的定量點(diǎn)分析

NF A08-701-2-2006銅和銅合金.用波長(zhǎng)分布X-射線(xiàn)熒光光譜法(XRF)測(cè)定主要結(jié)構(gòu)和雜質(zhì).第2部分:常規(guī)測(cè)量

NF A08-701-1-2006銅和銅合金.用波長(zhǎng)分布X-射線(xiàn)熒光光譜法(XRF)測(cè)定主要結(jié)構(gòu)和雜質(zhì).第1部分:常規(guī)測(cè)量指南

NF X21-003-2006微光束分析.電子探針顯微分析.波長(zhǎng)分布X射線(xiàn)光譜測(cè)量法定量分析指南

NF A09-252-1-2003無(wú)損檢驗(yàn).X射線(xiàn)照相膠片數(shù)字化系統(tǒng)的合格檢驗(yàn).第1部分:定義、圖像質(zhì)量參數(shù)的定量測(cè)量、標(biāo)準(zhǔn)參照膠片和定性控制

NF M60-512-3-2000校準(zhǔn)劑量計(jì)和劑量率計(jì)及測(cè)量作為光子能量作用反應(yīng)用X射線(xiàn)和伽瑪射線(xiàn)的參考輻射.第3部分:范圍及人員劑量計(jì)的校準(zhǔn)和作為能量作用的反應(yīng)和入射角度的測(cè)定

NF M60-512-2-2000校準(zhǔn)劑量計(jì)和劑量率計(jì)及測(cè)量作為光子能量作用反應(yīng)用X射線(xiàn)和伽瑪射線(xiàn)的參考輻射．第2部分:對(duì)能量范圍在8KeV-13MeV和4-9MeV的輻射防護(hù)的劑量測(cè)量法.

NF A09-230-2-2000無(wú)損試驗(yàn).X射線(xiàn)電子管電壓的測(cè)量和評(píng)價(jià).第2部分:用厚濾膜法的穩(wěn)定性檢驗(yàn)

NF A09-231-5-1999無(wú)損檢驗(yàn).無(wú)損檢驗(yàn)用工業(yè)X射線(xiàn)系統(tǒng)中焦點(diǎn)的特性.第5部分:*小和*大聚焦X射線(xiàn)電子管的有效焦點(diǎn)尺寸的測(cè)量

NF A09-230-3-1999無(wú)損檢驗(yàn).X射線(xiàn)電子管電壓的測(cè)量和評(píng)價(jià).第3部分:光譜測(cè)定法

NF A09-230-1-1999無(wú)損檢驗(yàn).X射線(xiàn)電子管電壓的測(cè)量和評(píng)價(jià).第1部分:分壓器法

NF M60-512-1-1998校準(zhǔn)劑量計(jì)和劑量率計(jì)及測(cè)量作為光子能量作用反應(yīng)用X射線(xiàn)和伽瑪射線(xiàn)的參考輻射

NF X11-683-1981液體內(nèi)變高度重力沉積粉末顆粒分析.X射線(xiàn)吸收測(cè)量法

NF A91-116-1976金屬鍍層.厚度的測(cè)量.用X射線(xiàn)光譜術(shù)

美國(guó)保險(xiǎn)商實(shí)驗(yàn)所，關(guān)于x射線(xiàn)峰位測(cè)量的標(biāo)準(zhǔn)

UL 61010-2-091-2014測(cè)量, 控制和實(shí)驗(yàn)室用電氣設(shè)備的要求的UL安全標(biāo)準(zhǔn). 第2-091部分: 機(jī)柜X射線(xiàn)系統(tǒng)的特殊要求 (第一版)

韓國(guó)標(biāo)準(zhǔn)，關(guān)于x射線(xiàn)峰位測(cè)量的標(biāo)準(zhǔn)

KS C IEC 61526:2012輻射防護(hù)裝置.X、γ、中子和β射線(xiàn)輻射個(gè)人劑量當(dāng)量Hp(10)和Hp(0.07)的測(cè)量.直讀式個(gè)人劑量當(dāng)量計(jì)

KS L ISO 21587-3:2012硅酸鋁耐火材料的化學(xué)分析(可選擇X射線(xiàn)熒光法).第3部分:感應(yīng)耦合等離子體和原子吸收光譜測(cè)量法

KS D ISO 22489:2012微光束分析.電子探針微量分析.運(yùn)用波長(zhǎng)色散X射線(xiàn)光譜測(cè)量法定量分析塊狀樣品

KS D ISO 3497:2002金屬鍍層.鍍層厚度的測(cè)量.X射線(xiàn)光譜測(cè)定法

美國(guó)電氣電子工程師學(xué)會(huì)，關(guān)于x射線(xiàn)峰位測(cè)量的標(biāo)準(zhǔn)

IEEE N42.47:2010X射線(xiàn)和伽馬射線(xiàn)人身保安系統(tǒng)成像性能測(cè)量用美國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)

IEEE N 42.47:2010X射線(xiàn)和伽馬射線(xiàn)人身保安系統(tǒng)成像性能測(cè)量用美國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)

IEEE/ANSI N 42.47:2010人類(lèi)安檢用X射線(xiàn)和γ射線(xiàn)系統(tǒng)圖像性能測(cè)量的美國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)

美國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)學(xué)會(huì)，關(guān)于x射線(xiàn)峰位測(cè)量的標(biāo)準(zhǔn)

ANSI N42.47-2010人類(lèi)安檢用X射線(xiàn)和γ射線(xiàn)系統(tǒng)圖像表征的測(cè)量

ANSI/ASTM D2622:2005用波長(zhǎng)色散X-射線(xiàn)熒光光譜測(cè)量法檢測(cè)石油產(chǎn)品中硫含量的試驗(yàn)方法

ANSI/ASTM E915:1996測(cè)量剩余應(yīng)力用的X射線(xiàn)衍射儀驗(yàn)證方法

ANSI/EIA 503-A-1990直觀(guān)電視顯像管X射線(xiàn)輻射測(cè)量的推薦規(guī)程

ANSI/EIA 501-A-1990光柵掃描直觀(guān)式數(shù)字顯示陰極射線(xiàn)管X射線(xiàn)輻射測(cè)量的推薦規(guī)程

ANSI/EIA 500-A-1989發(fā)射陰極射線(xiàn)管X射線(xiàn)輻射測(cè)量的推薦規(guī)程

歐洲標(biāo)準(zhǔn)化委員會(huì)，關(guān)于x射線(xiàn)峰位測(cè)量的標(biāo)準(zhǔn)

EN ISO 21587-3:2007硅酸鋁耐火材料的化學(xué)分析(可選擇X射線(xiàn)熒光法).第3部分:感應(yīng)耦合等離子體和原子吸收光譜測(cè)量法［代替:CEN ENV 955-4］

EN ISO 3497:2000金屬覆蓋層.鍍層的厚度測(cè)量.X射線(xiàn)光譜法ISO 3497-2000

EN 12543-5-1999無(wú)損檢驗(yàn).用于無(wú)損檢驗(yàn)的工業(yè)X射線(xiàn)系統(tǒng)中焦點(diǎn)的特性.第5部分:小型和微型聚焦X射線(xiàn)管有效焦點(diǎn)尺寸的測(cè)量

日本工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)調(diào)查會(huì)，關(guān)于x射線(xiàn)峰位測(cè)量的標(biāo)準(zhǔn)

JIS Z4615-2007工業(yè)X-射線(xiàn)儀用有效焦點(diǎn)尺寸的測(cè)量

JIS K0131-1996X射線(xiàn)衍射計(jì)測(cè)量分析的通用規(guī)則

JIS Z4615-1993工業(yè)用X光射線(xiàn)儀有效焦點(diǎn)尺寸的測(cè)量

國(guó)家*用標(biāo)準(zhǔn)-總裝備部，關(guān)于x射線(xiàn)峰位測(cè)量的標(biāo)準(zhǔn)

GJB 5814-2006*用電子器件X射線(xiàn)劑量增強(qiáng)效應(yīng)測(cè)量方法

行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-中國(guó)金屬協(xié)會(huì)，關(guān)于x射線(xiàn)峰位測(cè)量的標(biāo)準(zhǔn)

CSM 01 01 01 08-2006X-射線(xiàn)熒光光譜法測(cè)量結(jié)果 不確定度評(píng)定規(guī)范

美國(guó)機(jī)動(dòng)車(chē)工程師協(xié)會(huì)，關(guān)于x射線(xiàn)峰位測(cè)量的標(biāo)準(zhǔn)

SAE HS 784-2003用X射線(xiàn)衍射測(cè)量SAE剩余應(yīng)力

SAE J 784A-1971X射線(xiàn)衍射測(cè)量殘余應(yīng)力

美國(guó)機(jī)械工程師協(xié)會(huì)，關(guān)于x射線(xiàn)峰位測(cè)量的標(biāo)準(zhǔn)

ASME SEC V B SE-1165-2001用針孔成象法測(cè)量工業(yè)X射線(xiàn)管子件焦點(diǎn)的試驗(yàn)方法.ASTM E1165-92(R1996)

機(jī)械電子工業(yè)部，關(guān)于x射線(xiàn)峰位測(cè)量的標(biāo)準(zhǔn)

JB/T 5068-1991金屬覆蓋層厚度測(cè)量 X射線(xiàn)光譜法

美國(guó)電子元器件、組件及材料協(xié)會(huì)，關(guān)于x射線(xiàn)峰位測(cè)量的標(biāo)準(zhǔn)

ECA EIA-501-A-1990光柵掃描Direct-Vie數(shù)據(jù)顯示陰極射線(xiàn)管X射線(xiàn)測(cè)量的推薦規(guī)范

ECA 501-A-1990Direct-View電視圖像管X射線(xiàn)測(cè)量的推薦實(shí)踐

歐洲電工標(biāo)準(zhǔn)化委員會(huì)，關(guān)于x射線(xiàn)峰位測(cè)量的標(biāo)準(zhǔn)

HD 512 S1-1989光電X射線(xiàn)圖像增強(qiáng)器換算系數(shù)的測(cè)量

行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-電子，關(guān)于x射線(xiàn)峰位測(cè)量的標(biāo)準(zhǔn)

SJ 20147.1-1992銀和銀合金鍍覆層厚度測(cè)量方法X射線(xiàn)熒光光譜法

SJ/T 11096-1996醫(yī)用X射線(xiàn)電視設(shè)備測(cè)量方法

SJ/T 11094-1996醫(yī)用X射線(xiàn)圖像增強(qiáng)器電視系統(tǒng)性能參數(shù)及測(cè)量方法

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